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對激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環境氣壓關系的理論解析
為了對激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環境氣壓關系進行定量解釋,考慮燒蝕產物在惰性氣體環境中的動力學過程以及薄膜生長的沉積和二次濺射過程,并假定二次濺射幾率正比于入射粒子的動能,建立了激光燒蝕沉積納米薄膜生長的動力學模型.定量地解釋了T.Scharf等人在惰性氣體He,Ne,Ar,Xe環境下燒蝕沉積Ag膜的實驗結果,所出現偏差乃計及大顆粒所致.
作 者： 王英龍 周陽 傅廣生 彭英才 褚立志 張榮梅 作者單位： 河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,07l002 刊 名： 中國激光 ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS 年，卷(期)： 2004 31(z1) 分類號： O484.1 關鍵詞： 薄膜物理學 Ag薄膜沉積 脈沖激光燒蝕【對激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環境氣壓關系的理論解析】相關文章：
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