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PCS中基線值對累積法反演結果的影響分析
針對光強自相關函數與歸一化光場自相關函數之間的關系,指出基線值的不同會影響到顆粒粒徑和分散度的測量結果.分析了納米顆粒尺寸和分散度測定的光子相關光譜技術中的累積算法.利用光子相關光譜技術對三種不同材料共五種尺寸的顆粒進行了測試分析,結果顯示:測量基線方法不同,對應的基線值會不同,利用累積法反演得到的顆粒粒徑和分散度的結果也會不同.從理論上分析了反演結果不同的原因.本文確認了自動斜率法是較恰當的確定基線的方法.
作 者： 劉桂強 楊冠玲 周述蒼 曾思明 韓鵬 LIU Gui-qiang YANG Guan-ling ZHOU Shu-cang ZENG Si-ming HAN Peng 作者單位： 華南師范大學,物理與電信工程學院,廣州,510006 刊 名： 光電工程 ISTIC PKU 英文刊名： OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING 年，卷(期)： 2008 35(3) 分類號： O432.2 關鍵詞： 光子相關光譜法 納米顆粒測量 累積法 有效直徑 分散度【PCS中基線值對累積法反演結果的影響分析】相關文章：
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