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痕量镎和钚的ICP-MS分析方法
經(jīng)TOA萃取色層柱分離環(huán)境樣品,2次上柱,將Np和Pu同時(shí)洗脫,239Pu的化學(xué)回收率為 (92.7±3.1)%,237Np為(96.8±2.7)%,實(shí)現(xiàn)了ICP-MS同時(shí)測定痕量Np和Pu的含量.應(yīng)用稀釋劑242Pu,通過同位素稀釋ICP-MS法測量痕量239Pu和240Pu的含量,用IAEA標(biāo)樣對方法進(jìn)行驗(yàn)證,Pu 的測定值與標(biāo)樣的推薦值吻合較好(標(biāo)樣中無Np的標(biāo)準(zhǔn)值),證明了ICP-MS同時(shí)測定痕量Np和Pu的可行性.
作 者： 吉艷琴 李金英 JI Yan-qin LI Jin-ying 作者單位： 吉艷琴,JI Yan-qin(中國疾病預(yù)防控制中心,輻射防護(hù)與核安全醫(yī)學(xué)所,北京,100088)李金英,LI Jin-ying(中國核工業(yè)集團(tuán)公司,北京,100822)
刊 名： 核化學(xué)與放射化學(xué) ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NUCLEAR AND RADIOCHEMISTRY 年，卷(期)： 2008 30(2) 分類號： O657.63 關(guān)鍵詞： 電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS) 環(huán)境樣品 痕量 镎 钚 同位素稀釋法【痕量镎和钚的ICP-MS分析方法】相關(guān)文章：
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