8.0 nm反射式偏振膜的設計和制備

8.0 nm反射式偏振膜的設計和制備

討論了軟X射線反射式偏振膜的設計原理和方法,利用設計軟件模擬設計了8.0 nm處的Mo/B4C偏振膜.對影響多層膜性能的參量進行了詳細的誤差分析.利用磁控濺射鍍膜機進行了偏振膜的制備研究,X射線小角衍射測量了多層膜的周期厚度,測量數據的擬合結果與設計值吻合很好.

作 者： 呂超 易葵 邵建達 L(U) Chao YI Kui SHAO Jian-da   作者單位： 中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜中心,上海,201800  刊 名： 光子學報  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA  年，卷(期)： 2007 36(11)  分類號： O434.14  關鍵詞： 多層膜   軟X射線   偏振   準布儒斯特角  

【8.0 nm反射式偏振膜的設計和制備】相關文章：

優化設計制備動態膜及其對印染廢水的深度處理04-27

高耐污染中空纖維膜制備方法及產業化04-26

殼聚糖-CdS復合膜制備及其對吡啶的傳感特性04-26

Ag-TiO2 復合膜的制備及光催化性能04-26

硅橡膠/陶瓷復合膜的制備及其油氣回收性能研究04-25

十八烯反應膜的制備及其微觀摩擦學性能研究04-27

γ-Al2O3微孔膜制備及其處理電鍍廢水的研究04-27

氣體的制備、檢驗和凈化復習教案04-24

磷渣路面基層材料的設計、制備與性能研究04-25

基于小分子自組裝膜為模板的聚合物薄膜可控性制備方法04-27