X射線熒光層析成像中消除散射光的方法

X射線熒光層析成像中消除散射光的方法

介紹了X射線熒光層析成像技術的成像原理及其在微量分析領域中的應用.針對X射線與物質相互作用時,不僅產生熒光,而且會產生各種散射光,為消除這些散射光對成像結果的影響,提出采用在與入射X射線垂直方向放置一個圓環狀的晶體單色器,即雙聚焦模式晶體單色器,使熒光與各種散射光分離,并聚焦在探測器上.這樣不僅大大增強了熒光信號的強度,而且可使熒光探測器小型化.

作 者： 謝紅蘭 高鴻奕 陳建文 陸培祥 徐至展   作者單位： 中國科學院上海光學精密機械研究所,上海,201800  刊 名： 光學學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(4)  分類號： O434.14 TH742.63  關鍵詞： X射線光學   X射線熒光層析   晶體單色器   同步輻射  

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