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金剛石膜在Si(100)襯底上的選擇沉積
采用自行設計的微波等離子體化學氣相沉積系統,利用銅網作為模板實現了在Si(100)襯底上金剛石膜的選擇沉積.用場發射掃描電子顯微鏡(SEM)、Raman散射譜對樣品進行了表征與分析.并與同樣生長條件下未采用模板時得到的金剛石樣品進行了比較.結果發現,采用模板后,金剛石膜的成核密度和質量都得到很大提高.
作 者： 常開朋 程文娟 江錦春 張陽 朱鶴孫 沈德忠 作者單位： 常開朋,程文娟,江錦春,朱鶴孫,沈德忠(清華大學化學系,功能晶體與薄膜研究所,北京,100084)張陽(清華大學化學系,功能晶體與薄膜研究所,北京,100084;清華大學光子與電子技術研究中心,北京,100084)
刊 名： 人工晶體學報 ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 年，卷(期)： 2003 32(6) 分類號： O484.1 關鍵詞： 金剛石膜 Si(100)襯底 微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)【金剛石膜在Si(100)襯底上的選擇沉積】相關文章：
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