高聚物薄膜表面堆起結構的變溫原子力顯微術研究

高聚物薄膜表面堆起結構的變溫原子力顯微術研究

利用原子力顯微鏡研究了不同溫度(室溫至58℃)及掃描速率(1-20μm/s)對高聚物PtBuA薄膜(厚度為133nm)表面上形成的突起結構和周期狀堆起結構的影響.發現較快的掃描速率或較低的溫度易產生隨機的團狀突起,較慢的掃描速率或較高的溫度則易形成周期狀突起結構(周期寬度約為100nm),且溫度和掃描速率對周期狀堆起結構的影響定性滿足高聚物的時溫等效關系.此外,當溫度低于高聚物的玻璃化轉變溫度Tg時,表面粗糙度隨掃描次數的增加而增加;高于Tg時,表面粗糙度基本不變.實驗表明堆起結構的形成需要高聚物有較大的模量、較小的粘附力和較弱的分子弛豫能力,因此該類結構主要在玻璃態才能形成.

作 者： 王曉平 石勤偉   作者單位： 王曉平(中國科學技術大學物理系,合肥,230026;中國科學技術大學結構分析開放實驗室,合肥,230026)

石勤偉(中國科學技術大學結構分析開放實驗室,合肥,230026) 

刊 名： 物理學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2003 52(3)  分類號： O4  關鍵詞： 高聚物   原子力顯微術   納米技術  

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