高溫漫反射紅外光譜及探針分子識別分子篩中的羥基

高溫漫反射紅外光譜及探針分子識別分子篩中的羥基

采用高溫漫反射紅外光譜法研究分子篩羥基, 考察了溫度、加熱時間對高溫光譜的影響.該方法結合NH3和C5H5N分子探針在298～823K對磷酸硅鋁分子篩SAPO-34中的羥基進行了表征.結果表明, 3612 cm-1和3597 cm-1吸收峰表征的羥基位于SAPO-34分子篩的晶格中, 歸屬于兩種橋聯羥基(Si-OH-Al).兩種羥基均具有酸性, 在823K時仍然穩定.

作 者： 張平 王樂夫 李雪輝 徐建昌   作者單位： 張平(華南理工大學化工系,廣州,510640;廣州大學環境科學系,廣州,510400)

王樂夫,李雪輝,徐建昌(華南理工大學化工系,廣州,510640) 

刊 名： 分析化學  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY  年，卷(期)： 2002 30(9)  分類號： O6  關鍵詞： 磷酸硅鋁分子篩   羥基,漫反射紅外光譜   高溫光譜   分子探針  

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