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用干涉法實現光學合成孔徑技術
分析了傳統干涉成像方式的分辨率受限問題,提出一種干涉條紋場的合成來提高分辨率的方法,并以實驗驗證了上述方法的可行性.
作 者: 彭仁軍 吳健 楊春平 陳長庚 作者單位: 電子科技大學應用物理研究所,成都,610054 刊 名: 光學學報 ISTIC EI PKU 英文刊名: ACTA OPTICA SINICA 年,卷(期): 2002 22(3) 分類號: O436.1 關鍵詞: 干涉 合成孔徑 錯位【用干涉法實現光學合成孔徑技術】相關文章:
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