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電荷補償劑對YAG:Ce熒光粉效率的影響
在研制傳統的YAG:Ce3+熒光粉過程中引入NH4F作為助熔劑,BaF2和MgF2作為電荷補償劑,使得熒光粉的性能得到有效的改善.助熔劑的引入使YAG:Ce3+熒光粉的合成溫度由原來的1 600 ℃降低到1 340 ℃左右,這對于降低生產成本有著十分重要的意義.引入BaF2和MgF2作為電荷補償劑,熒光粉的發光強度得到有效的提高.尤其是引入MgF2后,光致發光強度提高了42%.從XRD譜可以看出,Mg和Ba進入晶格取代了Y.通過對晶格常數的計算,發現Mg的引入可以部分補償Ce3+摻雜帶來的晶格增大.同時電荷補償劑的引入使熒光粉達到電荷平衡:2AYxY→2Mg'Y→V¨O、2YxY→2Ba'Y+V¨O減少了燒制過程中產生的氧空位缺陷的影響,從而減少了由于氧空位帶來的無輻射躍遷.另外,以雜質離子的半徑和原子的電負性為出發點,對發射光譜的峰位相對移動作了定性的解釋.
作 者： 黃先 王健 吳慶 劉麗 趙成久 劉學彥 侯鳳勤 張立功 范翊 蔣大鵬 HUANG Xian WANG Jian WU Qing LIU Li ZHAO Cheng-jiu IU Xue-yan HOU Feng-qin ZHANG Li-gong FAN Yi JIANG Da-peng 作者單位： 黃先,王健,吳慶,劉麗,HUANG Xian,WANG Jian,WU Qing,LIU Li(中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 激發態物理重點實驗室,吉林,長春,130033;中國科學院,研究生院, 北京,100049)趙成久,劉學彥,侯鳳勤,張立功,范翊,蔣大鵬,ZHAO Cheng-jiu,IU Xue-yan,HOU Feng-qin,ZHANG Li-gong,FAN Yi,JIANG Da-peng(中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 激發態物理重點實驗室,吉林,長春,130033)
刊 名： 發光學報 ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年，卷(期)： 2007 28(6) 分類號： O482.31 關鍵詞： YAG:Ce 助熔劑 電荷補償劑 光致發光【電荷補償劑對YAG:Ce熒光粉效率的影響】相關文章：
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