光催化沉積法制備Pd膜的改進及Pd膜性能表征

光催化沉積法制備Pd膜的改進及Pd膜性能表征

對光催化沉積法(PCD)制備Pd膜進行了改進,使含有TiO2與Pd2+的懸浮液膜層在多孔陶瓷膜表面形成液體薄膜,該薄膜在紫外光直接照射下發生光催化還原反應,燒結后得到含TiO2及Pd晶種的超薄膜層,用化學鍍修飾得致密Pd膜.采用SEM、EDAX方法對所制的Pd膜表征結果表明,Pd膜厚度為5～6 μm.在350～500 ℃和0.05～0.15 MPa下進行氣體滲透實驗,當溫度為450℃時,H2滲透系數為4.07×10-6 mol/(m2·s·Pa),N2的滲透量檢測不出,高溫熱循環測試表明該Pd膜致密且具有良好的熱穩性.

作 者： 黃丹 蔣久樂 范益群 HUANG Dan JIANG Jiu-le FAN Yi-qun   作者單位： 南京工業大學,化學化工學院,江蘇,南京,210009  刊 名： 南京工業大學學報（自然科學版）  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION)  年，卷(期)： 2007 29(5)  分類號： O614.8 TB383  關鍵詞： Pd膜   光催化沉積   TiO2   H2分離  

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