鈦合金表面離子束增強沉積MoS2基膜層及其性能

時間:2023-04-29 10:01:45 數理化學論文 我要投稿
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鈦合金表面離子束增強沉積MoS2基膜層及其性能

將離子束增強沉積(IBED)技術與離子束濺射沉積技術相結合,在鈦合金表面制備了MoS2, MoS2-Ti復合膜。研究了膜層的形態、結構、膜基結合強度、硬度、摩擦學性能及抗微動(fretting)損傷性能。結果表明:所獲膜層較純濺射膜結合強度高、致密性好,復合膜中允許的金屬元素含量大。通過恰當地控制復合膜中Ti的含量,可獲得以(002)基面擇優取向的MoS2-Ti復合膜,該膜層有較好的減摩和抗磨綜合性能,能夠顯著地改善鈦合金的常規磨損、微動磨損(FW)和微動疲勞(FF)性能,特別是在磨損嚴重的大位移整體滑移條件下, MoS2-Ti復合膜對鈦合金FF抗力的提高作用可大于噴丸形變強化處理。

作 者: 劉道新 唐賓 陳華 何家文 LIU Dao-xin TANG Bin CHEN Hua HE Jia-wen   作者單位: 劉道新,LIU Dao-xin(西北工業大學民航工程學院,)

唐賓,TANG Bin(太原理工大學表面工程研究所,)

陳華,何家文,CHEN Hua,HE Jia-wen(西安交通大學) 

刊 名: 中國有色金屬學報  ISTIC EI PKU 英文刊名: THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS  年,卷(期): 2001 11(3)  分類號: O484  關鍵詞: 鈦合金   離子束增強沉積   MoS2復合膜   摩擦磨損   微動疲勞   噴丸強化  

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