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點源γ光子穿越特定形狀屏蔽層的Monte Carlo計算與模擬
采用Monte Carlo方法對點源γ光子穿越球殼形屏蔽層的問題進行了蒙特卡羅計算與模擬,并用VC++編寫了軟件對光子運行過程進行模擬,通過對模擬結果γ能譜的分析,顯示模擬結果能較好地反映實際光子的運動過程.利用所編軟件對不同材料不同厚度的介質進行模擬, 可得出厚度為4cm的鉛做介質對光子的屏蔽效果較好.
作 者: 郭生良 葛良全 程鋒 GUO Sheng-liang GE Linag-quan CHENG Feng 作者單位: 成都理工大學核技術與自動化工程學院,成都,610059 刊 名: 核電子學與探測技術 ISTIC PKU 英文刊名: NUCLEAR ELECTRONICS & DETECTION TECHNOLOGY 年,卷(期): 2007 27(3) 分類號: O411.2 關鍵詞: 蒙特卡羅模擬 點源 γ能譜【點源γ光子穿越特定形狀屏蔽層的Monte Carlo計算與模擬】相關文章:
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