交流量熱法測量SiO2薄膜的熱擴散率

交流量熱法測量SiO2薄膜的熱擴散率

介紹了交流量熱法測量薄膜熱擴散率的原理和系統(tǒng)組建.用脈寬為納秒級的超短激光脈沖作為熱源,測量了Si襯底上厚度為100nm和500nm的SiO2薄膜水平方向上的熱擴散率.實驗結果表明該結構的熱擴散率比SiO2體材料的要小,并且隨著SiO2層厚度的減小,熱擴散率也減小.

作 者： 陳海軍 馬靈芝 唐禎安   作者單位： 大連理工大學,電子系,遼寧,大連,116023  刊 名： 功能材料  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS  年，卷(期)： 2002 33(5)  分類號： O484.5 TK121 TK124  關鍵詞： 交流量熱法   薄膜   熱擴散率  

【交流量熱法測量SiO2薄膜的熱擴散率】相關文章：

刷流量的技巧11-17

農用薄膜專項檢查總結范文08-17

【熱】測量的實習報告03-04

測量的實習報告【熱】03-04

測量實習報告【熱】03-06

【熱】測量實習報告03-06

電信流量活動方案01-15

【熱】工程測量實習心得04-17

[熱]工程測量實習總結07-22

離職率如何算,離職率的算法01-06