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十八烯反應膜的制備及其微觀摩擦學性能研究
通過紫外激發在氫終止的單晶硅表面制得了十八烯的反應膜,并采用接觸角測定儀、紅外光譜儀、橢圓偏光儀及原子力顯微鏡等表征了薄膜的結構和摩擦學特性.結果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通過鍵合生成有序反應膜,從而降低硅表面的粘著能和減小摩擦.
任忠海(哈爾濱紡織科學研究所,黑龍江,哈爾濱,150070)
刊 名: 摩擦學學報 ISTIC EI PKU 英文刊名: TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY 年,卷(期): 2002 22(5) 分類號: O623.121 TH117.3 關鍵詞: 十八烯 反應膜 氫終止硅表面 AFM【十八烯反應膜的制備及其微觀摩擦學性能研究】相關文章:
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